Revêtements PACVD

Dépôt Chimique en phase Vapeur, Assisté Plasma

Technologie de revêtement Ionbond^™ PACVD

Le procédé PACVD est utilisé pour le revêtement d'un vaste éventail de substrat conducteur ou non, à des températures inférieures à 200 °C. La plage d'épaisseur typique est de 2 - 3 µm. Les revêtements ont une structure amorphe et possèdent autour de 70% de liaison sp³, ce qui explique leur dureté élevée (10-40 GPa).

Qu'est-ce que le dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma (PACVD)?

La technologie PACVD (Dépôt Chimique en phase Vapeur, Assisté Plasma) est un procédé de dépôt sous vide utilisé pour la réalisation de dépôts de DLC (Diamond Like Carbon- Carbone Adamantin), également connu sous le nom ADLC (Amorphe Diamond Like Carbon). Le processus se déroule sous forme gazeuse, ce qui le rend approprié pour traiter de manières uniformes des composants 3D sans avoir à mettre les pièces en rotation comme cela est nécessaire dans la technologie PVD.

La solution idéale pour les systèmes tribologiques

Les revêtements DLC présentent une excellente dureté, ils résisteront à l'usure et auront de très bonnes caractéristiques de glissement à sec ou sous faibles conditions de lubrification. Ils sont parfaitement adaptés pour les systèmes tribologiques que l’on retrouve dans les moteurs, les machines et autres assemblages mécaniques où sont présents des mouvements de glissement ou de rotation. Aucune reprise n’est nécessaire après traitement, ce qui rend ce traitement idéal pour les outils de haute précision, les outillages d’injection où les pièces décoratives où le rendu final est quelque chose de primordial. La couche de DLC est chimiquement inerte et biocompatible ce qui autorise son emploi sur des composants et implants médicaux.

Large choix de substrat
Pas de déformation de substrat à forte tolérances
Aucun post-traitement nécessaire
Le processus gazeux pour un revêtement uniforme des pièces de géométries 3D complexes sans rotation
Technologie propre aussi bien pour les processus que pour les rejets