Dépôt chimique en phase vapeur
Dépôt Chimique en phase Vapeur
Service de revêtement CVD Ionbond™
Le procédé Ionbond™ CVD a été développé dans les années 1970. Le processus de dépôt utilise des halogénures métalliques comme précurseurs de revêtement, tels que TiCl4 ou AlCl3. Au fil des ans, la technologie n’a cessé de s’améliorer afin de répondre aux exigences croissantes du marché, notamment en matière de qualité des revêtements, de fiabilité et de productivité du procédé et de l'équipement. Le procédé CVD est utilisé pour déposer des couches de 5 à 12 µm et dans certains cas particuliers jusqu'à 20 µm d’épaisseur. Les matériaux employés sont des TiC, TiCN, TiN et des d'oxyde d'aluminium (Al203) α ou κ. Ils sont appliqués en couches simples ou multiples sur des inserts de coupe, sur des outillages de frappe, de découpe ou des outillages d’injection, sur des outillages d'extrusion, et diverses pièces mécaniques soumises à la corrosion ou à l’abrasion.
Avantages des revêtements CVD
Les températures de processus standards pour les revêtements CVD Ionbond™ sont entre 900 et 1050 °C pour le CVD HT et entre 720 et 900 °C pour le processus MT CVD de Ionbond™. Les substrats pouvant être revêtus, sont des carbures de tungstène, des aciers à outils, des alliages de nickel à hautes températures, de la céramique et du graphite. Les outils en acier trempé devront subir un traitement thermique Post Revêtement afin de retrouver leur dureté initiale.
Faible contraites
Adhérence exceptionnelle du revêtement due à la formation d’une liaison par la diffusion
Capacité à supporter de fortes charges
Excellente uniformité du revêtement, indépendante de la géométrie de la pièce
Possibilité de revêtir des géométries complexes, y compris des diamètres intérieurs
Qu'est-ce que la technologie de revêtement CVD ?
Le Dépôt Chimique en phase Vapeur (CVD), est le procédé de dépôt par évaporation chimique, qui permet d’obtenir des couches faiblement contrainte du fait d’une réaction chimique induite thermiquement. Le matériau du revêtement est apporté dans l’enceinte sous la forme d’un gaz précurseur. La vapeur se décompose alors ou réagit avec d’autres précurseurs supplémentaires, produisant ainsi un film sur le substrat. Les précurseurs sont introduits en continu dans la zone de réaction tandis que les produits résiduels sont éliminés. Les procédés CVD peuvent être réalisés sous vide ou à pression atmosphérique, répondant également à des exigences croissantes dans le domaine de cvd assainissement pour des applications techniques et industrielles.
Questions fréquemment posées sur les services de revêtement CVD
Les revêtements CVD permettent de réduire les coûts à long terme et augmentent les performances. Les coûts sont réduits en raison d’une meilleure longévité des outils et de l’amélioration des conditions de coupe, ce qui entraîne une productivité plus élevée. Des outils revêtus CVD peuvent fonctionner à sec ou avec une lubrification réduite (ou avec des agents de démoulage dans le cas d’outils de formage) permettent de faire des gains sur les coûts d'exploitation et de recyclage. Les revêtements CVD sur des pièces mécaniques permettent de réduire le frottement et l'usure et d'améliorer performances et fiabilité.
Avant le revêtement, les substrats (outils ou composants) doivent être exempts de toute matières étrangères telle que, les huiles, graisses, peintures et ce, sur toute la surface et pas seulement celle qui devra être revêtue. Le processus de nettoyage est un élément essentiel qui détermine l'adhérence et influe ainsi aussi sur la performance de la pièce revêtue. Toutes les pièces seront préalablement nettoyées par Ionbond à l’aide d’un processus spécifique avant la phase de revêtement. Il est important de définir avec le client, les conditions optimales dans lesquelles doivent être livrées les pièces pour recevoir le revêtement.
La technologie CVD permettent de revêtir d’une manière uniforme l’intérieur et l’extérieur de pièce ou d’outil qui seront positionnés de manière statique dans la chambre.
La possibilité de masquer certaines zones dépend de la technologie utilisée. Le masquage est généralement assez facile à réaliser dans le cas du procédé PVD, devient plus difficile pour le PACVD et le CVD.
Les délais standards sont de 3 à 5 jours. Des pièces d’essai et d’échantillonnage vont demander plus de temps surtout si des développements des fixations et de procédés sont nécessaires.
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