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Tecnólogia PVD

La Deposición Física de Vapor (PVD) es un método para producir recubrimientos duros basados en metal por medio de la generación de vapor de metal parcialmente ionizado, su reacción con ciertos gases y mediante la formación de una película fina con una composición especificada en el sustrato. Los métodos utilizados más comúnmente son la pulverización (sputtering) y el arco catódico. En pulverización catódica (sputtering), el vapor se forma por un objetivo metálico bombardeado por iones de gas energéticos. El método de arco catódico utiliza descargas repetitivas en arco vacío para evaporar el metal. Todos los procesos de PVD se llevan a cabo bajo condiciones de alto vacío. El proceso Ionbond PVD se utiliza para la deposición de recubrimientos hechos de nitruros, carburos y carbonitruros de Ti, Cr, Zr y aleaciones como AlCr, Alti, TiSi en una amplia gama de herramientas y componentes. Las aplicaciones incluyen herramientas de corte y formación, componentes mecánicos, dispositivos médicos y productos que benefician de los rasgos duros y decorativos de los recubrimientos. La temperatura de proceso típico para recubrimientos PVD es de 250 y 450 °C. En algunos casos, los recubrimientos de PVD Ionbond pueden ser depositados a temperaturas inferiores a 70 °C o hasta 600 °C, dependiendo de los materiales de sustrato y del comportamiento esperado en la aplicación. Los recubrimientos pueden ser depositados como capas mono-, multi- y graduadas. Las capas de última generación son variaciones nanoestructuradas y superretículas de recubrimientos multicapa, que proporcionan propiedades mejoradas. La estructura de revestimiento se puede ajustar para producir las propiedades deseadas en términos de dureza, adhesión, fricción, etc. La elección final de recubrimiento está determinada por las demandas de la aplicación. El espesor de recubrimiento oscila entre 2 y 5 micras, pero puede ser tan fino como unos pocos cientos de nanómetros o tan grueso como 15 micras o más.
Los materiales de sustrato incluyen aceros, metales no ferrosos, carburos de tungsteno, así como plásticos pre-chapado. La adecuación del material de sustrato para el revestimiento PVD está limitada sólo por su estabilidad a la temperatura de deposición y la conductividad eléctrica.