Recubrimientos PACVD
Plasma Asistido por Deposición Quimica por Vapor
Tecnología de revestimiento Ionbond™ PACVD
El proceso PACVD se utiliza para el recubrimiento de una gama muy amplia de materiales de sustrato conductivo y no conductivo a temperaturas inferiores a 200 °C. El espesor típico tiene un rango de 2 a 3 micras. Los recubrimientos son amorfos en su estructura y contienen alrededor de 70% bondings sp3, lo que explica la alta dureza del recubrimiento (10-40 GPa).
¿Qué es el depósito químico en fase vapor asistido por plasma (PACVD)?
PACVD (Plasma Asistido por Deposición Quimica por Vapor) es un proceso basado en vacío utilizado para depositar recubrimientos DLC (Diamond Like Carbon), también conocido como ADLC (Amorphous Diamond-Like Carbon). Todos los eductos del proceso PACVD son gaseosos. Esto lo hace adecuado para recubrir los componentes 3D, sin la necesidad de rotación como es necesario en PVD.
La solución ideal para sistemas tribológicos
Los recubrimientos DLC cuentan con excelente dureza, propiedades de desgaste y de baja fricción en condiciones secas o de lubricación deficiente. Son ideales para sistemas tribológicos que se encuentran en motores, máquinas y otros componentes mecánicos con deslizamiento y movimientos de rodadura. El acabado superficial perfecto sin ningún post-tratamiento los hace ideal para herramientas de alta precisión de moldeo por inyección, así como para fines decorativos. DLC es químicamente inerte y biocompatible que permite su aplicación en componentes médicos e implantes.
- Amplia gama de materiales de sustrato
- No hay distorsión de sustratos de alta precisión
- No es necesario un tratamiento posterior
- Proceso gaseoso para el recubrimiento uniforme de geometrías 3D sin rotación
- Tecnología verde con respecto a eductos, procesos y productos
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