
PACVD Beschichtungen
Plasma Assisted Chemical Vapor Deposition

Ionbond™ PACVD Beschichtungstechnologie
Der PACVD Prozess wird für die Beschichtung einer grossen Bandbreite von leitenden und nichtleitenden Substratmaterialien verwendet und läuft bei Temperaturen von unter 200 °C. Die Typische Schichtdicke beträgt 2-3 µm. Die Beschichtungen sind von amorpher Struktur und beinhalten ca. 70% sp3 Hybride (Diamantstruktur). Dies resultiert in der hohen Härte der Beschichtungen (10-40 GPa).


Was ist plasmagestützte chemische Gasphasenabscheidung (PACVD)?
PACVD (Plasma Assisted Chemical Vapor Deposition) ist ein Vakuumprozess zur Herstellung von DLC Beschichtungen (DLC = Diamond Like Carbon, auch bekannt als ADLC = Amorphous Diamond Like Carbon). Alle Edukte des PACVD Prozesses sind gasförmig, was ihn quasi dazu prädestiniert, 3D Komponenten gleichmässig ohne die für den PVD Prozess benötigte Rotation zu beschichten.
Die ideale Lösung für tribologische Systeme
DLC Beschichtungen weisen eine hohe Härte und günstige Verschleiß- und Reibungseigenschaften auf, auch bei Trockenlauf bzw. Minimalmengenschmierung. Sie sind besonders für tribologische Systeme in Motoren, Maschinen und anderen mechanischen Baugruppen mit Gleit- und Rollbewegungen geeignet. Die Schichtoberfläche ist ohne Nachbehandlung ideal glatt und eignet sich sowohl für hochpräzise Spritzgusswerkzeuge als auch für dekorative Zwecke. DLC ist chemisch inert und biokompatibel, was den Einsatz auf medizinischen Komponenten und Implantaten erlaubt.
- Vielzahl an Substratmaterialien
- Kein Bauteilverzug bei hochpräzisen Substraten
- keine Nachbehandlung notwendig
- Gasprozess für die einheitliche Beschichtung von 3D Geometrien ohne Rotation
- Grüne Technologie in Bezug auf Edukte, Prozesse und Produkte