Safran与Ionbond合作开发用于外太空的涂层。

PVDCVD涂层通常与耐磨膜联系在一起,可以延长工具和机器零件的使用寿命。然而,这些涂层也可以提供各种其他独特的表面特性。Ionbond的标志“表面工程师”反映了我们专门从事表面工程以满足应用需求的事实。

Safran PPS 5000

Safran的使命:为卫星开发高效等离子推进器。

法国公司Safran Space Propulsion向Ionbond提出了开发新一代等离子推进引擎专用涂层的请求。这些引擎用于太空飞船推进或使卫星保持在轨道上。Safran主要为欧洲航天局(ESA)生产这些引擎,ESA的航天器依赖等离子推进器在太空中推动它们。

Light bulb

为什么选择等离子推进技术?

等离子推进系统是一种反应引擎,使用等离子作为产生推力的手段。相反,化学推进则依赖化学反应来达到相同的目的。有趣的是,这两种引擎都使用牛顿第三定律作为它们的基本运行原理。化学推进虽然是主流技术,但在排放气体的速度和相应的飞行器可以达到的最高速度方面有物理限制。此外,它的‘燃料经济性’等价物(火箭科学家称之为‘比冲’)非常低。而等离子推进引擎虽然只有适度的推力,但可以长时间提供推力,并且燃料效率要好得多。等离子推进器可以将航天器推进到令人印象深刻的每秒50公里(每小时18万公里)的速度。

霍尔效应推进器和空心阴极的作用

赛峰公司制造所谓的霍尔效应等离子推进器,它使用电离的氙气作为推进剂,靠静电场作为加速手段。氙等离子体是通过其原子与电子的碰撞在圆柱形阳极内形成的。氙离子然后被加速并推出阳极。在出口阶段,离子重新与电子结合,从而保持整个设置电中性。赛峰的工程师选择了中空阴极原理来产生电离所需的电子。中空阴极利用气体离子的能量来维持所需的高温以进行电子发射。为了降低发射温度,从而增加阴极的寿命,通常使用具有低功函数的特殊材料。在中空阴极的情况下,发射材料的管被插入到耐火金属外壳内。然而,在高温下,这些材料的成分开始扩散到外壳材料中,导致其迅速恶化。为了防止这种情况发生,需要在发射和外壳材料之间设置扩散屏障。

氮化锆作为扩散屏障

氮化锆(ZrN)材料被确定为阻止这种扩散的有效手段。Ionbond工程师的任务是开发一种能够在空心阴极组件表面生产这种涂层的工艺。这项任务提出了重大挑战。首先,涂层必须在具有高纵横比的零件内径上生产。其次,涂层厚度必须超过20微米 - 与常规要求相比异常厚,并且要很好地附着于耐火金属。第三,沉积的ZrN薄膜必须表现出特定的形态和晶体学晶格以满足Safran的规格要求。

挑战:部件ID的涂层具有较高的沉积厚度

由于PVD工艺不适合用于内径涂层沉积,Ionbond工艺工程师将目光投向了CVD技术。该涂层是通过氯化纯锆并将形成的ZrCl4蒸汽传输至反应区,在那里与高温下的氢气和含氮气体混合物反应形成ZrN。在传统工艺中,ZrN的沉积速率不到每小时一微米,这对于沉积厚度超过20微米的薄膜来说是不可接受的。因此,Ionbond工程师不得不寻找增加沉积速率的可能性。诸如反应物浓度、氯化和沉积温度、压力和负载设置等参数被确定为影响沉积速率的因素。在初步热力学分析后,为每个参数选择了可行范围,并设计了实验矩阵。除了沉积速率,晶格和形态类型也作为响应变量进行监测。

Morphology of Zr N deposits

Typical morphology of ZrN deposits:  left – 可接受; right – 不可接受

Labor

定制CVD工艺设计

通过实验和数据分析,成功建立了输入参数与响应变量之间的依赖关系。我们特别注意了负载设置,以生产具有可接受厚度分布和均匀性的涂层。由于整体优化任务涉及三个参数(沉积速率、形态和晶格),必须对工艺进行大幅调整,以生产所需的形态和晶体结构类型,同时保持沉积速率的最高值。

从概念到解决方案:任务完成。

Ionbond的工程师成功地克服了这些挑战,并开发了一种专门的沉积ZrN涂层的工艺,使沉积速率增加了四倍,满足了所有Safran规格的要求。第一批部件已交付给Safran,在那里它们将进行测试并安装在等离子推进器中。“这是一项复杂、大胆的多因素优化任务。Ionbond的工程师展现了专业素养、对技术的深入了解和非常热情的解决问题的态度。鞠躬!”——Safran的材料与工艺认证经理Laurent Godard表示。

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