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内表面

物理气相沉积和等离子体辅助化学气相沉积(PVDPACVD)技术的局限性之一是,它们无法在内表面(例如具有大纵横比的孔洞)沉积涂层。然而,化学气相沉积 (CVD) 技术可对几乎无限长度和纵横比的内表面进行涂层处理。这是通过管理反应气流(即 Ionbond 工程师在针对不同产品掌握的一项技术)来实现的。可在各种几何形状和尺寸的生成上涂覆优质涂层(例如 TiN、TiCN、ZrN 或 Al2O3)。CVD 工艺对奥氏体(300 系列)钢特别适合,这些材质不受沉积工艺高温的影响。在处理后,其他材料可需要附加热处理,也可不需要,具体取决于应用要求及其成分。Ionbond 工程师开发了多种解决方案,通过 CVD 生产的涂层成功保护 ID,免受磨损和腐蚀。