专用涂层及其应用

针对独特操作要求的定制解决方案

特殊涂层和应用

除了主流的涂层应用外，IHI爱恩邦德还为独特的操作要求提供定制的解决方案。这些解决方案通常是针对特定客户或市场需求的广泛开发的产物。我们的工程师不回避具有挑战性的任务，并努力在许多情况下找到标准方法不适用的解决方案。这些开发是在我们位于欧洲、美国和亚洲的能力中心进行的，采用了PVD、CVD和PACVD技术。

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应用范围

干转环境

在干转环境（例如干燥气体或真空环境）中，常规 DLC 涂层（例如 Tribobond^™ 41/42/43）具有较高的摩擦和磨损速率。为了满足此类工况的防护需要，Ionbond 开发了 Tribobond^™ 55 涂层，这种涂层专门用于克服这种局限。其实现方式是改进功能 DLC 层的结构和成分。

这种定制层在大多数干转和真空环境中具有极低的摩擦系数，从而有助于降低与摩擦有关的磨损和能量损失。Tribobond^™ 55 涂层通常用于高真空系统的易损件，以及在干燥气体环境中运行的摩擦应用。

内表面

物理气相沉积和等离子体辅助化学气相沉积（PVD 和 PACVD）技术的局限性之一是，它们无法在内表面（例如具有大纵横比的孔洞）沉积涂层。然而，化学气相沉积 (CVD) 技术可对几乎无限长度和纵横比的内表面进行涂层处理。这是通过管理反应气流（即 Ionbond 工程师在针对不同产品掌握的一项技术）来实现的。可在各种几何形状和尺寸的生成上涂覆优质涂层（例如 TiN、TiCN、ZrN 或 Al₂O₃）。

CVD 工艺对奥氏体（300 系列）钢特别适合，这些材质不受沉积工艺高温的影响。在处理后，其他材料可需要附加热处理，也可不需要，具体取决于应用要求及其成分。Ionbond 工程师开发了多种解决方案，通过 CVD 生产的涂层成功保护 ID，免受磨损和腐蚀。

防腐

传统的物理气相沉积和化学气相沉积（PVD 和 CVD）涂层在耐腐蚀能力方面的改进效果甚微。这主要是由于涂层结构的局限，使腐蚀性介质与基材通过颗粒边界及其他涂层缺陷相互作用。

为了改善敏感基材的防腐性能，Ionbond 提供了多种可能解决方案。

铝涂层
铝涂层可明显改善耐腐蚀能力。涂层在电偶腐蚀中充当牺牲阳极，从而很好地保护基材。形成这种薄膜的常用方法是离子气相沉积 (IVD) 。Ionbond 工程师已经开发了一种使用阴极电弧或溅射 PVD 技术生产铝涂层的替代技术。由 PVD 方法生产的铝涂层，其完全符合严格的美国国防部规范 (MIL-SPEC)，与其他方法沉积的涂层相比，性能优势十分突出。

氧化硅 PACVD 膜
另一种有效的防腐蚀解决方案是 PACVD 氧化硅膜。这些膜非常适合形成全密封表面，有效防止腐蚀性介质与基材相互作用。SiOx 涂层是使用纯 PACVD 工艺制成，从而避免了无用的膜结构。这些涂层具有长达 500 小时盐雾试验的无腐蚀性能。与铝涂层不同，SiOx 膜硬度大，具有一定的防磨损能力。它们可作为常规 Tribobond^™ 膜的面层。