专用涂层及其应用
针对独特操作要求的定制解决方案
干转环境
在干转环境(例如干燥气体或真空环境)中,常规 DLC 涂层(例如 Tribobond™ 41/42/43)具有较高的摩擦和磨损速率。为了满足此类工况的防护需要,Ionbond 开发了 Tribobond™ 55 涂层,这种涂层专门用于克服这种局限。其实现方式是改进功能 DLC 层的结构和成分。
这种定制层在大多数干转和真空环境中具有极低的摩擦系数,从而有助于降低与摩擦有关的磨损和能量损失。Tribobond™ 55 涂层通常用于高真空系统的易损件,以及在干燥气体环境中运行的摩擦应用。
内表面
物理气相沉积和等离子体辅助化学气相沉积(PVD 和 PACVD)技术的局限性之一是,它们无法在内表面(例如具有大纵横比的孔洞)沉积涂层。然而,化学气相沉积 (CVD) 技术可对几乎无限长度和纵横比的内表面进行涂层处理。这是通过管理反应气流(即 Ionbond 工程师在针对不同产品掌握的一项技术)来实现的。可在各种几何形状和尺寸的生成上涂覆优质涂层(例如 TiN、TiCN、ZrN 或 Al2O3)。
CVD 工艺对奥氏体(300 系列)钢特别适合,这些材质不受沉积工艺高温的影响。在处理后,其他材料可需要附加热处理,也可不需要,具体取决于应用要求及其成分。Ionbond 工程师开发了多种解决方案,通过 CVD 生产的涂层成功保护 ID,免受磨损和腐蚀。
防腐
传统的物理气相沉积和化学气相沉积(PVD 和 CVD)涂层在耐腐蚀能力方面的改进效果甚微。这主要是由于涂层结构的局限,使腐蚀性介质与基材通过颗粒边界及其他涂层缺陷相互作用。为了改善敏感基材的防腐性能,Ionbond 提供了多种可能解决方案。
铝涂层: 铝涂层可明显改善耐腐蚀能力。涂层在电偶腐蚀中充当牺牲阳极,从而很好地保护基材。形成这种薄膜的常用方法是离子气相沉积 (IVD) 。Ionbond 工程师已经开发了一种使用阴极电弧或溅射 PVD 技术生产铝涂层的替代技术。由 PVD 方法生产的铝涂层,其完全符合严格的美国国防部规范 (MIL-SPEC),与其他方法沉积的涂层相比,性能优势十分突出。
氧化硅 PACVD 膜: 另一种有效的防腐蚀解决方案是 PACVD 氧化硅膜。这些膜非常适合形成全密封表面,有效防止腐蚀性介质与基材相互作用。SiOx 涂层是使用纯 PACVD 工艺制成,从而避免了无用的膜结构。这些涂层具有长达 500 小时盐雾试验的无腐蚀性能。与铝涂层不同,SiOx 膜硬度大,具有一定的防磨损能力。它们可作为常规 Tribobond™ 膜的面层。
掺杂 DLC 涂层
由于类金刚石碳 (DLC) 涂层的独特性质,工程师能够根据具体应用调整其性质。其实现方式要么是改良沉积工艺,要么在 DLC 膜中掺入某些元素。Ionbond 的工程师已经为各种特殊应用开发了定制的 DLC 涂层,例如:
- 具有特定电阻率/电导率范围的膜
- 为实现更好疏水性而具有改性表面能的膜
- 用于非导电基材(例如玻璃或陶瓷)的膜
- 适用于某些塑料基材的膜
您是否对不同的应用感兴趣?Ionbond 工程团队一直致力于扩大 DLC 涂层的应用范围,并很乐意公开讨论定制应用。
Dr. Val Lieberman
全球分部经理组件