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PVD技术

物理气相沉积(PVD)是一种生产金属基础的硬质涂层的方法,它借助于生成局部电离金属蒸汽,与特定气体反应,并在基材上形成带有指定成分的薄膜。最常用的方法是溅射和阴极电弧。在溅射中,蒸汽通过有活力的气体离子轰击金属靶材生成。阴极电弧法使用重复真空电弧放电以冲击金属靶材和蒸发材料。所有PVD工艺是在高真空条件下进行。

爱恩邦德PVD工艺用于大量工具和部件的涂层,涂层由氮化物、碳化物和Ti、Cr、Zr的碳氮化物和合金如AlCr,、AlTi、TiSi构成。应用范围包括切削和成型工具、机械部件、医疗器械和受益于涂层的坚硬和装饰性特征的产品。

PVD涂层的典型工艺温度介于250和450 °C。在某些情况下,爱恩邦德PVD涂层可以在温度低于70 °C或高达600 °C时沉积,这取决于应用中的基材和预期表现。

涂层可以作单、多和分等级层次沉积。最新一代的薄膜是纳米结构和超晶格变化的多层涂层,它提供了增强的性能。涂层结构可以依据硬度、附着、摩擦等调整以生产出期望的性能,最终涂层的选择取决于应用的的要求。

涂层厚度范围从2至5微米,但也可以薄至几百纳米或厚到15微米或更多。

基材包括钢材、有色金属、碳化钨和预电镀的塑胶。PVD涂层基材的适合性仅受限于它在沉积温度和导电性方面的稳定性。

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