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PACVD技术

PACVD(等离子辅助化学气相沉积)是一种基于真空的工艺,用于沉积DLC(类金刚石)涂层,又称ADLC(非结晶类金刚石)。PACVD工艺的所有析出物为气态,这使它适合用于均匀地涂层3D部件,而不需要像PVD那样必须进行旋转。

涂层结构非结晶并含有70%左右的sp3黏结,这解释了涂层的高硬度(10-40 GPa)。

PACVD工艺用于涂层温度低于200 °C的非常广泛范围内的导电和非导电性基材,典型厚度是在2 - 3微米的范围内。

DLC涂层在干或润滑不足条件下具有优秀的硬度、耐磨性和低摩擦系数。它们完美地适用于建立在发动机、机器和其他带有滑动和滚动运动的机械部件的摩擦系统。未经任何后期处理的完美的表面光洁度使它们理想地用于高精密注塑成型工具和装饰目的。 DLC具有化学惰性和生物相容性,这允许其应用于医疗部件和医学植入物。

  • 丰富的基材
  • 高精密基板不变形
  • 不需要后处理
  • 不用旋转进行3D几何尺寸均匀涂层的气体工艺
  • 析出物、工艺和产品的绿色技术

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