PVD technologie

Fyzikální depozice vrstev (PVD) je metoda pro výrobu tvrdých povlaků na bázi kovů prostřednictvím částečně ionizovaných par kovu a jejich reakcí s některými plyny, čímž se na základním materiálu vytváří tenká vrstva s definovaným složením. Nejčastěji používané metody jsou naprašování a obloukové napařování. Při naprašování se částečně ionizovaná pára vytváří bombardováním kovových terčů energetickými ionty pracovního plynu. Při obloukovém napařování se používá opakující se obloukový výboj, který odpařuje materiál z kovového terče. Všechny PVD procesy probíhají za podmínek vysokého vakua.

Společnost Ionbond používá své PVD procesy k povlakování široké škály nástrojů a komponent vrstvami karbidů, nitridů či karbonitridů kovů, jako Ti, Cr, Zr či slitin, jako AlCr, AlTi či TiSi. Typickým použitím těchto povlaků jsou obráběcí a tvářecí nástroje, mechanické komponenty či zdravotnické nástroje a pomůcky, které těží z mechanických vlastností a vzhledu jednotlivých povlaků.

Depoziční teplota se při PVD procesu pohybuje mezi 250 a 450 °C. V některých případech mohou být naše PVD povlaky v závislosti na druhu základního materiálu a aplikaci naneseny již při teplotě pod 70 °C nebo naopak až při teplotě 600 °C.

Tyto povlaky mohou být připraveny jako monovrstva, multivrstva či gradientní vrstva. Nejnovější generací povlaků jsou nanostrukturní a supermřížkové variace vícevrstvých povlaků poskytující zlepšení vlastnosti. Struktura povlaku může být optimalizována vzhledem k požadovaným vlastnostem, jako je tvrdost, adheze, tření atd. Povlak je vždy vybírán dle náročnosti aplikace.

Tloušťka vrstvy se pohybuje mezi 2-5 um, ale může být tenká i jen několik set nanometrů nebo naopak silná až 15 či více um.

Základním materiálem určeným k povlakování mohou být oceli, neželezné kovy, karbidy wolframu stejně jako galvanicky pokovené plasty. Možnost nanesení PVD povlaku na konkrétní základní materiál je omezena pouze stabilitou materiálu při depoziční teplotě a jeho elektrickou vodivostí.